射频辉光放电光源中原子的形成和激发、电离机理的研究

基本信息
批准号:29575219
项目类别:面上项目
资助金额:9.00
负责人:任建世
学科分类:
依托单位:中国科学院金属研究所
批准年份:1995
结题年份:1998
起止时间:1996-01-01 - 1998-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:张功抒,马洪波,陈明
关键词:
射频辉光放电激发和电离表面分析
结项摘要

国内首次研制成功了用于原子发射光谱分析rf辉光放电源,组装成功国内第一台rf辉光放电原子发射光谱分析系统。它可对固体(导体、半导体和绝缘体)进行分和表面逐层分析。高频振荡下电子在样品和阳极间反射,增加停留时间,增大容积离化,增加了对溅射原子和气体原子碰撞截面,提高溅射率。rf放电可以比直流辉光放电低得多的气压下工作,因此对提高元素测定下限和测定灵敏度非常有好处;实验表明:在优化放电条件下,rf溅射坑底平和边缘效应可达忽略不计,因而建立rf辉光放电分析和逐层分析新技术有广泛应用前景和巨大潜力。为新材料科学与工程基础研究,优化材料表面改性工艺和材料可靠性评估提供信息。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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