以高硅钢的激光法制备为目标,建立激光快速渗硅新技术-激光化学气相沉积(LCVD)辅助渗硅法,研究快速渗硅过程与机理。在渗硅过程中引入激光和无氯硅源,籍激光加速硅源的分解并获得高化学活性的硅、改善其沉积动力学、促进硅与基体的反应与扩散;籍无氯硅源避免FeCl2生成造成Fe的损失并改善表面质量。通过激光对硅源局部热解和对基体局部加热的同步进行,把沉积与渗硅过程一体化,实现快速渗硅。对渗硅过程进行局部化
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数据更新时间:2023-05-31
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