有序金属-氧化物界面的制备及化学和谱学性质的研究
基本信息
批准号：29873042
项目类别：面上项目
资助金额：11.00
负责人：庄叔贤
学科分类：
依托单位：中国科学技术大学
批准年份：1998
结题年份：2001
起止时间：1999-01-01 - 2001-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：朱俊发,屠兢,马运生
关键词：
金属一氧化物界面非均匀外延生长
结项摘要
应用电子能谱和同步辐射考察由非均匀外延生长制备的有序金属氧化物超薄膜，以及进一步原位制备的金属/氧化物界面的确良结构和电子性质，在界面和上金属和氧化物的相互作用Ｑ芯刻秸敕肿釉谟行蜓趸锬ぜ敖鹗?氧化物界面上的吸附态、结构和化学反应。考察金属和氧化物的协同作用，表征反应的中间物。提出表面相互作用和分子活化的微观模型。
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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