微电子工业中低气压放电等离子体不稳性与控制的研究
基本信息
批准号：69571006
项目类别：面上项目
资助金额：10.00
负责人：马腾才
学科分类：
依托单位：大连理工大学
批准年份：1995
结题年份：1998
起止时间：1996-01-01 - 1998-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：邓新绿,王友年,郭淑红,吴桂林,刘金远,吴东江,陈松岩
关键词：
等离子体不稳定性反馈控制尘埃等离子体
结项摘要
理论上首次揭示了微波电等离子体的多稳态,为模式跃变不稳定性提供了理论依据,特别是提出在一定的放电条件下存在唯一的稳态稳态放电,通过调控放电功率可以实现现这种稳放电.根据这各理论,在ECR微波等离子体离子注渗工艺条件;用自恰理论首次研究了外磁场,辐射热,旋转气流和反应热对电弧等离子体不稳定性的影响,给出不稳定性判据和增长率,在理论上发现鞘层中尘埃粒子的密度和电荷扰动可激发离子声波不稳定性,给出了不稳定性判据和增长率,并指出调控靶上的负偏压可以控制尘埃粒子在鞘层空间的分布,不适当的负偏压可导致鞘层的崩埸,从而破坏微加工的工艺条件.
项目摘要
项目成果
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暂无此项成果
数据更新时间：2023-05-31
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