生物分子序列的相似性和复杂性的研究
基本信息
结项摘要
本工作是用离子束增强沉积法（IBED）在硅视底上制备立方氮化硼（C-BN）薄膜及研究镀膜对膜进行了分析，结果指出：用此法制备成了含有C-BN的氧化硼薄膜。研究了轰击离子束密、镀膜速率、轰击束中氨气的含量、衬底温度及添加剂的影响，结果指出：（1）在给定的轰击不能量与束密下氮化硼薄膜中C-BN的含量是随镀膜速率而变化的，且存在一个最佳镀膜速率值；（2）提高离子轰击速密，则此最佳镀膜速率值也相应增大；（3）镀膜速率又是随轰击离子束密及轰击束中氩气含量的增大而减小的；（4）衬底温度在400℃以下时膜中C-BN的含量是随温度提高而增加的；（5）用铜、镁、镍、钴做添加剂，膜中立方相的含量没有明显增加。
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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