有序纳米条纹图形化的掺杂镧锰氧薄膜生长、超大磁电阻

基本信息
批准号:90206019
项目类别:重大研究计划
资助金额:24.00
负责人:赵柏儒
学科分类:
依托单位:中国科学院物理研究所
批准年份:2002
结题年份:2005
起止时间:2003-01-01 - 2005-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:许波,吴非,张福昌,邱祥冈,董晓莉,钟建平
关键词:
纳米条纹图形化磁电阻
结项摘要

以磁控溅射和激光蒸发,生长均匀、高密度纳米条纹图形化的镧(锶)锰氧薄膜,以形貌和微观结构的观测分析、磁结构的观测分析等对其纳米特征进行表征。以多种温度环境,磁环境下电输运性质的测量,磁性质的测量对其磁电阻效应进行评价。通过这一项目的实施,获得在低磁场宽温区实用的高磁电阻性能的新型纳米材料。并为发展纳米技术开辟一个新的课题。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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