Si Ge/Si 技术作为第二代Si 技术,已成为半导体研究的热点之一。辐射环境中Si Ge 器件的广泛应用需要研究其粒子辐照效应。本项目拟研究Si Ge HBT 在中子和r 射线辐照后电学性能随不同Ge 含量和辐照剂量的变化以及退火恢复,确定其损伤容量和最佳退火工艺,结合辐照致深中心及其氢化钝和退火行为的测量,识别深中心的微观结构,探讨其辐照失效机理。.
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数据更新时间:2023-05-31
High Performance Van der Waals Graphene-WS2-Si Heterostructure Photodetector
神经退行性疾病发病机制的研究进展
氧化应激与自噬
气体介质对气动声源发声特性的影响
Fe-Si合金在600℃不同气氛中的腐蚀
SiGe HBT单粒子效应电荷收集机制及其关键影响因素研究
中子辐照对硅锗合金PN结电学性能的影响机理研究
深能级陷阱对CdZnTe晶体电学性能及辐射探测器性能的影响
ZnO中离子注入掺杂引入缺陷及其对电学和磁学性能影响研究