在电子显微分析中引入一定的氧分压或局域吹氧为(氧化物)试样配置氧环境(系统真空维持在≤10E-5乇),研究氧环境对试样表面电子辐照损伤和污染的控制作用。结合俄歇能谱治鲅芯康缱臃渌鹕撕捅砻嫖廴居氤涞缦窒蟮哪谠诹担教盅趸肪臣跚崾匝涞绲幕疲唤岷隙允匝尤龋饩鲇醚趸肪车缱酉晕⒎治龇椒ǚ治龇堑嫉缪罚绕涫茄趸锏目尚行晕侍狻
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数据更新时间:2023-05-31
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