应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值基础研究

薄膜的激光损伤问题是严重影响着激光系统稳定性和限制激光技术向高能量方向发展的主要瓶颈之一，现已成为国际上强激光领域研究的热点之一。提高薄膜激光损伤阈值除了探索新的沉积方法和沉积工艺外，采用后处理技术也是提高薄膜抗激光损伤能力的重要途径之一。传统提高薄膜激光损伤阈值的后处理技术是激光预处理，但是由于这种技术在实际有一定的不确定性，使其应用受到限制。本项目将探索采用一种新的提高薄膜激光损伤阈值的后处理技术- - 离子后处理，即在薄膜沉积后用特定的等离子体对其进行处理，使影响薄膜激光损伤阈值的因素微缺陷、吸收率等得到一定程度的抑制，从而提高抗激光损伤能力。研究包括后处理中等离子体的种类、束流、能量、时间等在内的各参数对提高薄膜激光损伤阈值的影响、等离子体与薄膜的相互作用机理、以及后处理中等离子体和薄膜种类的相关性等问题。通过该项目的研究，努力使离子后处理技术成为提高薄膜激光损伤阈值另一种重要技术。