利用掠入射X射线衍射技术表征聚芴薄膜形态结构的方法学研究及其应用

共轭聚合物可以应用于制作柔性大面积薄膜型光电器件。因其薄膜的形态结构对性能有很大的影响，有关其形态结构的研究受到了越来越多的关注。但是共轭聚合物薄膜不容易结晶,用常规的X射线衍射技术很难甚至不能测量出晶体衍射信号,不容易得到分子链堆砌方式等有用的信息,所以人们对该类聚合物薄膜的形态结构的了解非常少。近年来出现的无机材料薄膜掠入射X射线衍射技术，可以解决目前高分子薄膜表征的问题，给此方向的研究带来机遇。本项目拟以聚芴这种具有非晶相、液晶相和多种结晶相的被广泛应用的典型结晶性共轭聚合物为研究对象，开展掠入射X射线衍射表征共轭高分子薄膜的方法学研究，建立一套系统的共轭高分子薄膜形态结构的表征方法；同时深入聚芴薄膜中各种相态的形成过程与机理、各种相态中分子链取向及微晶尺寸等结晶性参数的调控方法和形态结构对相应器件性能的影响，预期为共轭聚合物光电器件的研究提供新的思路和理论依据。