SOI LDMOS器件在RF-SOC领域具有良好的应用前景。本项目将针对SOI LDMOS器件结构优化与大小信号模型开展如下研究:针对SOI衬底和射频功率应用,研究SOI RESURF解析模型,结合TCAD软件对LDMOS器件结构进行优化设计;高质量器件级PSOI材料制备与提高质量机理研究,设计并研制电学和热学性能优于SOI的PSOI LDMOSFET,使其能够有效改善雪崩击穿、浮体效应以及自加热问题,提高器件的射频性能;500MHz~5GHz 频率范围SOI LDMOSFET大、小建模技术研究,包括以SP/PSP模型为本征模型的模型方程研究、含射频寄生的模型拓扑架构的研究、模型参数的解析提取技术的研究、考虑SOI衬底损耗的精确去嵌技术研究等;采用Verilog实现模型在ADS等软件中的编译和链接,为基于SOI CMOS工艺进行高性能射频(功率)集成电路设计提供CAD基础。
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数据更新时间:2023-05-31
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