提高无显影光刻分辨率的研究
基本信息
批准号：68876209
项目类别：面上项目
资助金额：2.00
负责人：韩阶平
学科分类：
依托单位：中国科学院微电子研究所
批准年份：1988
结题年份：1991
起止时间：1989-01-01 - 1991-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：侯豪情,藤云,徐卫东,金钟元,陈锋,刘宗德
关键词：
气相光刻无显影光刻分辨率无显影光刻
结项摘要
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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