原子层沉积光学薄膜的生长与性能研究

本项目提出了用原子层沉积技术制备光学薄膜的方法。利用原子层沉积技术设计并制备出可作为光学薄膜的HfO2,SiO2,ZrO2等膜层。研究这些光学薄膜的微结构，光学特性，机械特性与制备工艺的关系。利用原子层沉积技术具有厚度控制精确，可沉积面积大，厚度均匀性好等优点，研究上述光学薄膜构成的多层光学薄膜制备的途径。利用该方法台阶复型好的优点，制备光子晶体二维波状结构薄膜。研究用原子层沉积技术制备的光学薄膜的抗激光损伤能力，探索用该方法制备抗强激光薄膜的可能性。项目的研究工作将拓宽光学薄膜的制备技术，在大面积，复杂形貌元件如光学微机电系统等方面有重要的应用前景。所以，该研究既具有强的前瞻性、创新性，又具有重要的科学意义和应用前景。