用高频溅射法制备了性能优良的铁基软磁合金薄膜和三明治结构多层膜。对材料的结构、磁性、磁畴结构、各向异性等进行了全面研究,重点研究了薄膜和多层膜的巨磁阻抗效应,包括巨磁阻抗效应与材料制备工艺、退火热处理、材料性质、交变电流频率。外加直流磁场等的关系。在铁镍铬硅硼单层膜中,在十三兆赫兹的交变电流频率下,获得了百分之四十的最大巨磁阻抗比,该值超过了国际上已报导的任何材料的水平。在铜夹层的铁铜铌硅硼三明治膜中,溅态获得了百分之三十二的巨磁阻抗比,退火后其值到了百分之八十。在低频下获得了超过百分之一千七百的最大磁电感比。如此优异的性能在国际上是少见的,这在微型磁传感器件中有着重要的应用前景。
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数据更新时间:2023-05-31
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