利用成像过程中介观相敏化斑的双重性提高系统的DQE

卤化银光敏材料经化学敏化后，卤化银晶面上所形成的敏化斑在成像过程中具有双重作用，即在暴光时浓集内光电子提高潜影的生成效率，起积极作用；而在继后显影时易起灰雾中心和噪声的消极作用，从而严重地影响系统的检测量子效率。本项目探讨利用介观相潜影斑和敏化斑在物化性能上的差别，探索“舍害保利”的有效途径，以使系统的综合品质再上一台阶。