化学增幅光致抗蚀剂是目前抗蚀剂研究和应用的最主要类型,也广泛应用于印刷版材等的感光成像材料。正型化学增幅光致抗蚀剂主要由可酸解型聚合物和光产酸剂组成,光产酸剂被光照产酸,酸导致光照区域的酸解反应,再通过稀碱水显影成像。因此,可酸解型聚合物的性质是此类抗蚀剂性能的关键。通过酚羟基或羧基与乙烯基醚反应得到保护的酚醛树脂或聚甲基丙烯酸酯是研究较多的可酸解性聚合物。我们尝试了各种二酸和二乙烯基醚进行反应,发现某些脂肪族二酸可和二乙烯基醚反应得到直链型酯缩醛聚合物,此酯缩醛聚合物具有高酸解活性,它和光产酸剂一起可组成一类新型正性感光成像材料。研究了松香二酸、金刚烷二甲酸和各种二乙烯基醚化合物反应的产物性质及其与光产酸剂等组成的新型深紫外光致抗蚀剂的成像性能。此成果在今年二月底于美国硅谷召开的SPIE抗蚀剂年会上得到国际同行的关注。对聚合反应条件、聚合物性质及其用于抗蚀剂的性能作深入研究具有重要意义。
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数据更新时间:2023-05-31
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