用于超微细图形光刻的偏振光离轴照明研究

研究新型超高分辨率、大焦深、低邻近效应的偏振光相移离轴照明光刻成象基本理论及其对分辨率、像差、特征尺寸、驻波效应和邻近效应规律与校正方法；高能量、高均匀性的新型相移掩模离轴照明原理方法；偏振相移掩模设计原理与制作方法。为我国千兆位集成电路、纳米技术等领域的发展打下理论和实践基础，促进信息科学发展具有重要科学意义和应用价值。