用电化学方法在具有纳米孔的多碳薄膜上制备出直径从50-400nm的Co、Ni、Fe线阵列,研究了沉积参数对线的结构和磁性的影响,初步获得制备单晶纳米线的沉积条件。首次利用磁场中沉积实现晶粒的定向生长,获得垂直膜面磁各向异性和大大增加的矫顽力。用溅射法制备了Co(Fe)-Al2O3(SiO2Cr2O3)金属—氧化物颗粒膜,研究了工艺—微结构—隧道磁电阻((TMR)间的关系,在1.3T磁场下,室温TMR为-7%,在4.2K和0.6T下为-16%,达国际报道水平。首次在Co-Cr2O3颗粒膜中获得TMR(-5%)及正的磁电阻。观察到颗粒间互作用对TMR的影响。穆斯堡尔谱研究发现Fe-SiO2膜呈垂直磁各向异性,Fe颗粒大小满足对数正则分布。TMR结果证实Inoue理论模型的正确性。该工作对制备具有重直磁各向异性及TMR的材料有较大参考价值。
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数据更新时间:2023-05-31
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