自组装膜在纳米刻蚀领域中的应用

本项目主要研究了基于扫描探针显微技术的纳米加工技术开发，自组装膜材料的合成及成膜性质表征，利用单分子膜为掩膜进行纳米结构加工，分别以商用扫描探针显微镜和近场光学显微镜为基础，研制开发出了多功能Spm探针同步控制系统和电场耦合型过场光加工技术。开展了基于场致蒸发，机械刻蚀原理的纳米结构制备，所获最小线宽达40纳米，提出了一种简便通用的合成巯基化合物的途径，合成了一系列具有偶氮苯，双炔功能团的巯基化合物，利用十八烷基三甲氧基硅烷单分子层为掩膜，利用自行开发的纳米刻蚀同步控制系统对云母、单硅表面进行加工，得到了最大线宽为30纳米的线条。