建立用于三维超微(纳米)图形复加工的约束刻蚀剂层新技术,在某些半导体和金属材料上实现复杂三维超微图形及纳米级平整表面复制加工,并争取应用于微系统的研究和制造。进行模板体系设计和制作方法的研究,研究微流体的过流特性和相关理论。建立可现场监控刻蚀深度的高精密微位移系统。开展相关实验与应用研究。.
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数据更新时间:2023-05-31
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