极低阈值电流垂直腔面发射半导体激光器研究

基本信息
批准号:69676027
项目类别:面上项目
资助金额:12.10
负责人:陈娓兮
学科分类:
依托单位:北京大学
批准年份:1996
结题年份:1999
起止时间:1997-01-01 - 1999-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:赵一广,焦鹏飞,黄显玲,刘刚,程磊,李宇为,熊燕燕
关键词:
垂直腔面发光半导体激光器极低阈值
结项摘要

(1)为降低垂直腔面发射半导体激光器(简称VCSELs)P区DBR的电阻,从而降低其电压,功耗,温升,以及光损耗,提出采用Pd/Sb(Mn)非合金欧姆接触薄膜取代大部分DBR对的设想,研究了不同膜厚,组分和退火温度下薄膜的反射谱和透射谱,求得了不同条件下的光学常数。(2)AlAs温氧化;在实验所用的水温,载气流量和反应温度下AlAs层的横向湿氧化速率-1.78μm/min;在第一次氧化后,在相同条件下进行第二次氧化后,氧化区宽度无明显变化,但颜色兰移,这表明氧化层折射率小和厚度收缩。显微拉曼测量结果也证明了这一点。(3)对梯形截面掩理结构VSCELs的横膜控制问题进行分析和计算。得出了在特定的注入电流范围内实现单基横模的最佳限制区倾角。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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