高数值孔径（NA>1）浸没光刻成像中偏振效应研究

本课题研究高数值孔径（NA>1）浸没光刻成像中偏振效应。掩模图形尺寸接近或小于光源的波长使掩模对光的传播产生新的影响，大NA浸没光刻矢量成像需求对现有的光学理论和技术基础提出了新的挑战，大NA光刻成像中偏振光传播规律、控制和利用，是实现65nm－32nm分辨率光刻的关键科学问题和技术基础。本课题在前期研究建立的理论分析基础上，利用商业软件、自主开发的软件和实验装置，研究偏振照明的传播与光刻成像性能，研究偏振光通过不同类型掩模材料和结构的传播新理论及像的形成与分析，研究浸没液体光学物理特性对偏振光传播的影响，研究偏振光在抗反层和抗蚀剂层中的传播理论与成像新机制，探索获得高分辨率、高保真度偏振成像新理论，探索控制和利用偏振光矢量成像的新方法与新途径，其特色和创新在于：研究偏振光在复杂系统中的多种或新型介质中传播的新理论与高分辨成像分析，为国家信息安全提供必要的基础支撑。