面向光刻机的超精密平面电机的设计与试验研究

基本信息
批准号:50775088
项目类别:面上项目
资助金额:38.00
负责人:周云飞
学科分类:
依托单位:华中科技大学
批准年份:2007
结题年份:2010
起止时间:2008-01-01 - 2010-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:李小清,严思杰,杨亮亮,滕伟,林来宾,孟凡昌,沈菲,夏文波
关键词:
运动控制光刻机超精密平面电机
结项摘要

针对同步扫描光刻机运动要求,进行纳米级精度的高速精密永磁平面电机设计方法研究,并研制原理样机。研究磁场、线圈、冷却系统的优化方法,实现大推力、低温升,避免热变形误差;研究电机磁场的精密计算模型,实现磁场阵列的优化布局,降低驱动非线性与轴间互感耦合;进行结构动态刚度分析,避免强磁场作用以及高速惯性力作用下产生结构变形与振动;进行电机热分析与冷却结构,提出一种良好散热结构;研究平面电机参数的精密测试与标定方法,并结合精密运动试验,基于动力学特性,研究对三自由度合成运动结果数据的精密运动解耦分离方法,实现对驱动特性参数的精密标定,满足高速、纳米级精度的运动控制要求。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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