研究了与InP晶格匹配的InGaAsP四元系量子阱材料在600℃以上开始失序。对该材料进行光子吸收诱导失序(PAID)技术的研究,得到最大达186meV的荧光峰蓝移。理论分析了连续激光辐照的热分布及由其导致PAID空间分辨率极限为100μm左右,表明PAID不宜用于光子集成(PIC)和光电子集成(OEIC)。在改变退火方案后,采用离子注入辅以退火的杂质诱导失序技术(IID),光荧光谱峰的加宽和电导率的增大表明光电性能有所退化;采用镀SiO2膜并快速退火的无杂质空位扩散(IFVD)技术,得到有一定重复性的约50nm的荧光峰值蓝移。研究表明,在量子阱混迭技术中,IFVD是最有希望应用于PIC和OEIC的,这是在对以上三种方案的理论与实验的比较中所得出的初步结论。
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数据更新时间:2023-05-31
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