多孔硅的形成与光学性质的研究

研究了多孔硅，激光染料/多孔硅镶嵌复合体以及金属/多孔硅接触的形成过程，光学性质，皮秒发光衰减动力学，输运和光电特性。主要结果：1.多孔硅形成初级阶段的电流I-电压V测量显示：在单晶硅/电解液界面形成一电偶层，它决定了多孔硅的形成和宏观性质；2.氧化可以显著地提高多孔硅发光强度及抗老化能力，多孔硅中的Si-O-Si键与蓝光发射密切相关；3.皮秒发光衰减观察到带间跃迁的单指数过程，而红光和蓝光发射的衰减规不同；4.激光染料/多孔硅复合体的发光强度和时间响应都大为改善，复合体的发光是受到孔径尺寸限制的染料单分子的发光；5.利用多孔硅的界面效应，制作了特殊结构的金属/多孔硅接触结构，显著地提高了光电转换效率。