InAs/GaAsSb量子点自组装生长及其第II型DWELL结构研究

基本信息
批准号:50972032
项目类别:面上项目
资助金额:35.00
负责人:李美成
学科分类:
依托单位:哈尔滨工业大学
批准年份:2009
结题年份:2012
起止时间:2010-01-01 - 2012-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:熊敏,李洪涛,张森,王银玲,王禄,石飞飞,孙伟峰
关键词:
自组装DWELL结构GaAsSbInAs量子点
结项摘要

拟采用分子束外延技术制备GaAs基第II型InAs/GaAsSb DWELL(dots-in-a-well)结构。在第一性原理计算的基础上,利用动力学蒙特卡罗法模拟InAs/GaAsSb量子点的自组装生长过程,获取量子点密度、形状的动力学影响因素;进而优化工艺技术,生长低缺陷密度且Sb组分精确控制的GaAsSb层;通过不同界面成键状态的研究,控制量子点的临界转变厚度,优化GaAs衬底上InAs/GaAsSb量子点的形貌;同时研究GaAsSb盖层的生长工艺对InAs/GaAsSb量子点形貌及高度的影响,将InAs量子点生长在GaAsSb/GaAs量子阱中,构成点在阱中的DWELL结构。进一步计算其电子结构,着重研究其中的第II型光跃迁机制。本研究对量子点等低维纳米结构的研究发展具有重要科学意义,也为近室温工作、多色响应、高性能量子点光电探测器的研制和应用奠定基础。

项目摘要

采用分子束外延技术制备了GaAs基GaAs/GaAsSb量子阱和第II型InAs/GaAsSb DWELL(dots-in-a-well)结构。利用第一性原理计算模拟了InAs/GaAsSb量子点的自组装生长过程,获取量子点密度、形状的动力学影响因素;进而优化工艺技术,生长低缺陷密度且Sb组分精确控制的GaAsSb层;通过不同界面成键状态的研究,控制量子点的临界转变厚度,优化GaAs衬底上InAs/GaAsSb量子点的形貌;同时研究GaAsSb盖层的生长工艺,及其对InAs/GaAsSb量子点形貌及高度的影响,将InAs量子点生长在GaAsSb/GaAs量子阱中,构成点在阱中的DWELL结构。进一步计算其电子结构,着重研究其中的第II型光跃迁机制。本研究对量子点等低维纳米结构的研究发展具有重要科学意义,也为高性能量子点光电探测器的研制和实际应用奠定了理论基础。

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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