研究了CCl4,CF3I,丁二酮和过氧化二叔丁基(DTBP)在低温石英和银表面上的吸附以及紫外脉冲激光诱导脱附和光解离动力学,由石英微量称测定了气体分子的吸附速率,用时间分辨四极质谱测定了脱附和解离产物的飞行时间谱,并通过三种不同的形式的Maxwell速度分布进行拟合和解析,已获得下列主要研究成果,(1)对CCl4/石英体系,在高功率密度激光辐照下发生爆炸脱附,并产生动能高达3.5eV的超热分子,(2),吸附在石英和银表面上的CF3I和丁二酮,经激光辐照引起的脱附机理随表面性质而同,在石英表面上主要发生光脱附,在银表面上同时发生光吸附和热脱附(3)DTBP/Ag体系光解是由该分子中O-O键断裂引起的,而DTBP/石英体系还发生O-e键断裂,研究成果已发表4篇论文,
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数据更新时间:2023-05-31
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