强流负离子永磁溅射PIG离子源的研究

基本信息
批准号:19975005
项目类别:面上项目
资助金额:16.00
负责人:于金祥
学科分类:
依托单位:北京大学
批准年份:1999
结题年份:2003
起止时间:2000-01-01 - 2003-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:任晓堂,宋执中,王忠义,杨向军
关键词:
强流负离子永磁溅射PIG源
结项摘要

本项目研究用永磁溅射PIG源产生强流负电子,尤其是强流氧负离子的机理和方法。研究空间和电极表面过程对负离子产生的影响;磁场分布和强度,以及不同电极材料及其组合对产生负离子的作用;优化源结构并研制出多靶位和O-离子流强大于5mA的实用源型。该源可用于RFQ加速器和强流氧离子埋层注入,以便解决强流O+离子注入时靶片击穿问题。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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