稳恒弱磁场促进优势菌界面铬(VI)迁移的机理研究

近年关于利用磁场强化优势菌对污染物的去除，是一个逐步受到关注的新型应用研究领域。铬(VI)是倍受关注的重要环境污染物之一，前期研究中课题组针对铬（VI）的磁生物还原去除开展了大量工作，筛选得到2株优势菌，发现特定弱磁场明显提高优势菌系统除铬（VI）效率。2002年3月15日出版的《Science》和2006年9月28日出版的《Nature》分别对自然环境中磁场促进铬（VI）还原和特定因素可使细胞膜ATPase离子泵转变为阴阳离子选择性通道的现象进行了专题报道。在此基础上，本项目拟从宏观和微观两个层次揭示磁场对铬(VI)在优势菌界面迁移的影响机理。研究磁场条件下，铬(VI)的胞外吸附位点、富集状态及EPS和细胞膜等结构的还原富集贡献，通过对亚细胞水平细胞膜ICD、ATPase 活性及离子通道的研究，探索磁场对铬(VI)透膜过程的影响，为磁场－优势菌协同修复技术的发展和应用奠定理论和方法基础。