非传统方法制备超精细纳米结构及其应用

基本信息
批准号:50773092
项目类别:面上项目
资助金额:34.00
负责人:曹廷炳
学科分类:
依托单位:中国人民大学
批准年份:2007
结题年份:2010
起止时间:2008-01-01 - 2010-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:薛面起,王芳芳,刘志华,赵启超
关键词:
超精细图案纳米转移印刷非传统制备纳米加工边缘刻蚀
结项摘要

非传统制备技术作为光刻等传统技术的有益补充,目前已经在生物芯片、微流体、光电子等领域得到诸多应用。本项目提出一种新的基于纳米转移印刷和边缘刻蚀的非传统制备方法,通过在二甲基硅氧烷橡胶(PDMS)印章的表面蒸镀金属或非金属薄膜并转移印刷,将金属或非金属纳米结构印制到不同的材质上形成超精细图案。该方法具有制作简单,易于操作,能够方便地操控纳米结构和对其精确定位以及便于大规模复制,不需要昂贵设备和特殊环境等特点,有望在生化分析和微纳光电子等领域得到实际应用。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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