原位磁控溅射薄膜初生过程研究
基本信息
批准号：59071013
项目类别：面上项目
资助金额：4.80
负责人：戚震中
学科分类：
依托单位：中国科学院合肥物质科学研究院
批准年份：1990
结题年份：1993
起止时间：1991-01-01 - 1993-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：姚伟国,石望舟,刘玲,杜国平,张爱莉
关键词：
薄膜初生过程磁控溅射
结项摘要
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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资助金额：3.50
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