亲水性固结磨料研磨抛光垫的自修正机理及其实现

基本信息
批准号:51175260
项目类别:面上项目
资助金额:60.00
负责人:朱永伟
学科分类:
依托单位:南京航空航天大学
批准年份:2011
结题年份:2015
起止时间:2012-01-01 - 2015-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:孙玉利,王俊,刘平,戴子华,叶剑锋,樊吉龙,刘蕴锋,墨洪磊
关键词:
亲水性固结磨料抛光垫化学沉积法自修正磨粒保持率亚表面损伤
结项摘要

自修正功能是亲水性固结磨料研磨抛光垫(FAP)的突出优点。本项目针对亲水性FAP的工况,提出与FAP加工性能相关的抛光垫特征指标及其相应表征方法;分析FAP表面各特征元素(磨粒、磨粒脱落坑以及基体)的图像信号特征,实现上述特征元素的自动识别;探索磨粒表面覆层的形态与厚度对FAP磨粒支持率与加工性能的影响规律;从FAP特征指标中筛选三项关键指标,探索关键指标处于何范围时,FAP具有自修正功能;综合关键指标与容屑空间概念,提出亲水性FAP(半)定量的自修正过程模型;探索FAP研磨抛光时亚表面损伤的特点及其形成机理,实现光学元件的低(无)亚表面损伤加工。为亲水性FAP的制备与应用提供理论指导。

项目摘要

自修正特性是亲水性FAP的突出特点,其自修正过程的定量表述是指导亲水性FAP参数设计和加工工艺参数制订的基础。本项目主要开展了五个方面的研究,分别为:亲水性FAP的特征指标及其评价方法;FAP表面各种特征元素的图像特征识别及磨粒保持率的计算;磨粒的表面镀覆工艺及其对磨粒支持率的影响;亲水性FAP自修正的实现机理及抛光工艺优化;亲水性FAP抛光加工的亚表面损伤形成机理。项目开展过程中,采用基体溶胀率、砂浆磨损率、摆式硬度;磨粒保持率、孔隙率、弹性模量等参数来表征FAP的特征指标,探索了其评价方法及工艺参数对其指标性能的影响规律。分析了磨粒、磨粒脱落坑以及聚合物基体的图像信号特征差异,实现了磨粒保持率的自动计算,在此基础上,大致估算了研抛过程中FAP的容屑空间。采用非均匀形核法,在磨料表面沉积一层氧化铝(氧化镍)多孔层,探索了工艺参数对镀层形貌及磨料保持率和加工性能的影响规律,比较了不同镀层条件下FAP磨粒支持率与FAP的加工特性。分别选择金刚石粒径、孔隙率、研磨压力、研磨垫中铜粉含量、研磨液中三乙醇胺含量等作为关键参数,获得了上述参数与材料去除率变化(自修正指标)之间的回归关系,为FAP的参数设计提供理论指导,优化了FAP的研磨抛光工艺参数。采用LS-DYNA软件,模拟金刚石压头压入K9工件时裂纹的萌生与扩展过程,并用“循环抛光腐蚀法”获得了不同载荷下金刚石压头在工件亚表面形成的裂纹长度,提出了“BOE分步法”来测量研抛条件下工件的亚表面损伤层深度,利用台阶仪在高度方向的高分辨率提高测量精度,探索了工艺参数对其亚表面损伤的影响规律,实现光学玻璃的低亚表面损伤加工。.项目执行期间,发表学术论文26篇,其中,SCI收录5篇,EI收录17篇;毕业博士研究生3名,硕士研究生11名,在站博士后2名;申请发明专利5篇,实用新型专利1项,其中3项发明专利获得授权,1项实用新型专利授权;参加国际学术会议6人次,2次担任分会主席。

项目成果
{{index+1}}

{{i.achievement_title}}

{{i.achievement_title}}

DOI:{{i.doi}}
发表时间:{{i.publish_year}}

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数据更新时间:2023-05-31

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