亚单层InAlGaAs量子点的分子束外延生长
基本信息
批准号：60444010
项目类别：专项基金项目
资助金额：6.00
负责人：徐章程
学科分类：
依托单位：南开大学
批准年份：2004
结题年份：2005
起止时间：2005-01-01 - 2005-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：皮彪,舒强,贾国治,邢晓东,孙亮
关键词：
自组装量子点亚单层高均匀性高密度
结项摘要
本项目的目的是探索高均匀性、高密度半导体自组装InAlGaAs量子点的分子束外延生长方法。和传统的Stranski-Krastnow (SK) 生长模式不同，我们将采用亚单层（Submonolayer）沉积法生长自组装InGaAlAs量子点。在生长亚单层InAlGaAs量子点时，交替沉积亚单层InAs和很薄的InAlGaAs 。和SK量子点相比，亚单层量子点具有密度高的特点，但其均匀性强烈地依赖
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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