采用微小透镜列阵新颖光刻术研究

开展模板与光刻件非接触新颖光刻技术研究，其核心是将微透镜列阵巧妙构成1：1综合成象光学系统。预计将给出适中光刻分辨率3um，工作距离3mm，景深100um，整个面感光均匀，俳咝鹿獾缱庸ひ沾蟾慕诖竺婊允酒骷姓螅⑽⑿』倒こ蹋∕M）、微小光缱庸こ蹋∕OEM）中，对不平整件光刻具关键作用。这将促进微工程发展，也可用于光纤队隒CD耦合。