新型有机二阶非线性光学聚合物的设计，合成与表征

具有高电光活性的有机二阶非线性光学活性（NLO）聚合物是当前的研究热点。本项目从小分子发色团的设计与合成入手，系统地研究发色团结构与NLO活性及热、光稳定性之间的关系，并制备具有具有优良综合性质及器件应用前景的新型有机二阶NLO聚合物。研究内容包括：（1）根据Albert等人所提出的"富电模型"，从共轭桥联的电子云密度分布入手，设计并合成一系列在共轭桥联结构中含有富电性吡咯基团的新型NLO发色团。（2）把光稳定剂引入到新型发色团的共轭桥联结构中，系统地探索结构与稳定性之间的关系，改善发色团的稳定性。（3）设计并合成新型的基质聚合物。把不同的交联基团分别引入到发色团和基质聚合物上，通过主-客体掺杂制备NLO聚合物，探索形成互穿交联网络的可能性，表征所得极化聚合物的电光活性以及偶极取向稳定性。