净化反应离子刻蚀中有毒和腐蚀性气体的原理和方法研究

这是本室在国家基金项目基础上提出的课题。研究反应离子刻蚀中卤代烃气体与被刻蚀表面及器壁相互作用所产生的有毒、有腐蚀性气体成份，用质谱或光谱等仪器检测各种有害成份。提出净化这些有害成份的原理和方法。此研究既清除有害气体污染净化环境又使微电子设备不受腐蚀延长寿命。这项创新工作对保护环境发展我国微电子加工工业具有重要的意义。