应用化学法或ESR技术测定体外提纯的花色素苷清除超氧阴离子、羟自由基、单线态氧和过氧化氢等不同活性氧能力的差异.同时利用拟南芥中花色素苷合成途径关键酶CHS或DFR基因突变体tt3、tt4、tt3tt4及其野生型为材料,经高光、低温高光和不同活性氧等逆境处理,研究植物花色素苷缺失后光破坏防御机制的变化。并通过分子生物学手段将CHS和DFR基因在拟南芥超表达,结合上述不同逆境处理,研究花色素苷的积累在光破坏防御中的作用。从正反两方面和体内体外等途径探讨花色素苷在植物光破坏防御中的作用及分子机理。另外将tt3,tt4,tt3tt4及CHS和/或DFR超表达植株与紫黄质脱环氧酶突变体npq1(VDE基因突变体)杂交,研究缺失或超表达CHS和/或DFR的 npq1植株叶片在高光、低温高光和不同活性氧等逆境下光破坏防御特性的变化,进一步探讨光破坏防御中花色素苷缺失或积累与叶黄素循环的可能关系
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数据更新时间:2023-05-31
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