外部电光取样技术能够用来检测各处高速集成电路芯片内部的高速电信号的波形。但是文献报导的空间分辨率不小于1微米,不能完全满足高速集成电路检测的要求。我们的主要研究内容是提高外部电光取样技术的空间分辨率。研究方法是研制各种结构的电光微探针,缩小探测光束与电场相互作用尺寸,从而提高空间分辨率。我们研制了三种结构不同的电光微探针,空间分辨率都小于1微米,最好的可达几十纳米。这项工作在高速集成电路的研制和生产中有重要的应用前景,它的后续应用研究,已经被列及2000年度国防科技重点实验室基金项目指南,今年2月份向吉林大学定向发布。同时我们正在考虑,在保护知识产权的前提下,开展国际合作与交流。
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数据更新时间:2023-05-31
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