多层布线大规模集成电路用低介电常数二氧化硅膜的研制

基本信息
批准号:50273043
项目类别:面上项目
资助金额:26.00
负责人:张榕本
学科分类:
依托单位:中国科学院化学研究所
批准年份:2002
结题年份:2005
起止时间:2003-01-01 - 2005-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:段庆华,江金强,郭广庆,张勇,周小蜀
关键词:
低介电常数材料二氧化硅膜梯型聚硅氧烷
结项摘要

低介电常数材料在多层布线大规模集成电路微型化中起着关键作用,具有可观商业价值。本研究利用本组提出逐步偶联法,制备带有成孔基,僧水基和交联为侧链梯型聚硅氧烷,再经熔/凝胶过程,同时发生微相分离,得到纳米尺寸异相微区的薄膜,再锻烧成具有综合性能良好的低介电常数二氧化硅纳米微孔膜。这是一个原始创新课题,有很好的实用前景。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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