室温下向非磁半导体的有效自旋极化注入是实现半导体自旋电子器件的首要问题。本项目以提高向半导体内的自旋极化注入效率为目标,重点研究:1)铁磁金属(FM)/半导体(SC)超晶格向半导体内的自旋极化注入,该结构同时具有铁磁金属高居里温度和稀磁半导体没有界面电阻失配的优点;2)利用Si/SiGe异质结势垒可控性好的特点,研究界面势垒对自旋极化电子的选择作用机制,找出利用界面势垒提高自旋极化注入效率的准则;
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数据更新时间:2023-05-31
High Performance Van der Waals Graphene-WS2-Si Heterostructure Photodetector
萃取过程中微观到宏观的多尺度超分子组装 --离子液体的特异性功能
吹填超软土固结特性试验分析
强震过程滑带超间隙水压力效应研究:大光包滑坡启动机制
Fe-Si合金在600℃不同气氛中的腐蚀
有机半导体的自旋注入效率研究
氧化锌半导体自旋注入和自旋过滤的研究
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