以国际上新近的突破性工作为基础,研究在偏压辅助下从含氟气源化学气相合成立方氮化硼的过程中氟与离子轰击的交互作用机理。首先研究离子轰击及其能量对氟刻蚀立方氮化硼(c-BN)和六方氮化硼(h-BN)的影响规律,揭示氟和离子轰击在刻蚀反应中的交互作用机理,得到优先选择刻蚀h-BN的动力学数据,为生长机制的确定提供支持。主要的工作是研究轰击离子能量和氟(浓度和化学状态)对c-BN生长的影响规律。通过研究离子轰击对氟参与反应过程的影响、反应过程中轰击离子的能量转移机制以及氟和离子轰击在c-BN合成中的相关性规律揭示离子轰击和氟在生长表面的交互作用机理,从而确定生长反应的路径,建立c-BN生长的理论模型,为c-BN生长技术的进一步发展提供基础。
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数据更新时间:2023-05-31
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