二元光学器件数字化制作关键技术的研究

研究基于数字微镜(DMD)的等效灰阶扩展实时精确控制轮廓深度的机理和提高光刻成像分辨率的新方法，研究数字移动、旋转、编码、分形等数字化制作二元光学器件关键技术。采用组合二次调制或叠加调制技术，对曝光光强调制高倍细分，精密控制曝光深度，以提高光刻图形纵向分辨率；研究数字分形技术，克服制作系统中精缩透镜的低通滤波特性导致图形边缘锐度下降的问题，以提高光刻图形的横向分辨率；研究图形数字滤波技术，减小因位相设计产生的空间延拓分量重叠的影响，降低由DMD特性引起的衍射分量重叠和黑删效应的影响，从整体上提高光刻图形分辨率。数字化实时、移动、旋转、编码及分形等关键技术的融合应用，不仅可以在线实时完成不同图像之间的切换，简化复杂图形的设计与制作，且易于选取感光材料的线性段曝光。研究成果将极大提高二元光学器件制作的灵活性和效率，对推动我国微光学器件加工的产业化有重要意义。