模拟同温层条件下哈龙破坏臭氧层的机理探索

本课题采用介质阻挡放电技术制备O3，并在此基础上研制出一套O3配气系统和O3浓度检测仪器，模拟同温层条件下研究哈龙紫外解离，并对机理进行了讨论，料验表明：253.7nm紫外光下哈龙光解离为表观一级反应；O2存在条件下，185nm短紫外光解离哈龙为表观一级反应，总反应对O2为零级；烷烃存在时，253.7届紫外光解CF2CL Br产物为HBr、CF2HCL2对臭氧层的损耗有一定抑制作用；O3存在时，253.7nm紫外光解离哈龙、氟里昂的控速步骤是O3光解产生O（1D）与哈龙、氟里昂的反应。研究了Br原子与O3反应机理，得到了每个Br原子损耗O3的个数和对紫外光照下O3损耗起关键作用的两个反应通道（BrO+BrO→Br2+O2与BrO+BrO→2Br+O2）的反应速率常数比为5.25。